반도체 제조 공정에서 웨이퍼 위에 정밀한 회로를 형성하는 것뿐만 아니라, 반도체 소자의 전기적 특성을 조절하는 공정이 필수적입니다. 그중에서도 산화(Oxidation)와 이온주입(Ion Implantation) 기술은 반도체 소자의 성능을 결정하는 중요한 공정입니다.산화(Oxidation): 웨이퍼 표면에 **절연층(SiO₂, 산화막)**을 형성하여 전류 흐름을 조절하고, 소자의 보호 역할 수행이온주입(Ion Implantation): 실리콘 웨이퍼에 불순물(Dopant)을 주입하여 트랜지스터의 전기적 특성을 조절이 두 공정은 반도체 소자의 동작을 최적화하고 성능을 향상시키는 필수적인 과정입니다. 이번 글에서는 산화와 이온주입 기술의 원리, 과정, 응용 및 최신 트렌드를 자세히 살펴보겠습니다.1. 산화(..