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EUV(Extreme Ultraviolet) 기술은 차세대 반도체 제조에서 가장 중요한 혁신 기술로 자리 잡았습니다.  초미세 공정을 가능하게 하는 이 기술은 반도체 소자의 집적도를 높이고, 고성능, 저전력 제품을 구현하는 데 필수적입니다.  이 글에서는 EUV 기술의 원리, 반도체 공정에서의 역할, 그리고 미래의 가능성을 자세히 살펴봅니다.EUV 기술이란?1. EUV의 정의EUV는 **극자외선(Extreme Ultraviolet)**을 뜻하며, 파장이 약 13.5nm로 매우 짧은 빛을 이용하는 기술입니다.기존의 DUV(Deep Ultraviolet)보다 훨씬 짧은 파장을 사용해 더 미세한 패턴 구현 가능.초미세 공정을 위해 사용되는 핵심 노광 기술.2. EUV의 필요성반도체 소자의 집적도를 높이기 위해..

**공정 노드(Process Node)**는 반도체 제조 기술의 발전 수준을 나타내는 중요한 지표로, 집적회로(IC)의 트랜지스터 크기와 밀도를 결정짓는 요소입니다. 반도체 업계에서는 공정 노드 크기를 줄이는 것이 기술 발전과 시장 경쟁력을 나타내는 척도로 간주됩니다. 본 글에서는 공정 노드의 정의, 역할, 기술적 의미, 그리고 미래 전망을 알아보겠습니다.공정 노드란 무엇인가?공정 노드는 반도체 제조 공정에서 사용되는 트랜지스터 크기와 관련된 기술적 지표를 의미합니다. 주로 나노미터(nm) 단위로 표시되며, 과거에는 트랜지스터의 게이트 길이를 직접적으로 나타냈으나, 오늘날에는 더 포괄적인 기술 집적도를 반영합니다.예: 5nm 공정은 해당 기술로 제조된 트랜지스터가 평균적으로 매우 작은 크기를 가지며, 고..