디지털과 AI세상

반도체 제조에서 가장 핵심적인 공정 중 하나는 **포토리소그래피(Photolithography)**입니다. 이 공정은 웨이퍼 위에 정밀한 미세 회로 패턴을 형성하는 과정으로, 반도체 칩의 성능과 집적도를 결정하는 중요한 기술입니다. 반도체 회로가 점점 더 미세화(7nm, 5nm, 3nm)되면서 포토리소그래피 기술의 발전이 필수적이 되었으며, EUV(극자외선) 리소그래피 같은 최첨단 기술이 개발되고 있습니다. 이번 글에서는 포토리소그래피 공정의 원리, 주요 기술, 응용 분야 및 최신 트렌드를 자세히 살펴보겠습니다.1. 포토리소그래피(Photolithography)란?포토리소그래피는 빛을 이용하여 웨이퍼 표면에 회로 패턴을 형성하는 공정입니다. 🔹 반도체 웨이퍼 위에 **감광제(포토레지스트, Photore..

포토리소그래피는 반도체 제조에서 가장 중요한 공정 중 하나로, 미세한 회로 패턴을 반도체 웨이퍼 위에 형성하는 기술입니다. 이 기술은 광학적 방법을 사용하여 매우 정밀한 회로 구조를 구현하며, 반도체 칩의 성능과 집적도를 결정짓는 핵심 요소로 작용합니다. 이번 글에서는 포토리소그래피의 원리와 과정, 그리고 이 기술이 반도체 산업에서 갖는 중요성에 대해 상세히 살펴보겠습니다.포토리소그래피란?**포토리소그래피(Photolithography)**는 빛을 사용하여 반도체 웨이퍼에 회로 패턴을 형성하는 공정입니다. 이 기술은 사진 기술(Photographic)과 석판 인쇄(Lithography)의 개념을 결합한 것으로, 특정 영역에만 빛을 노출시켜 패턴을 새기는 방식으로 작동합니다.패턴 형성: 빛을 통해 설계된 ..