반도체 제조에서 가장 핵심적인 공정 중 하나는 **포토리소그래피(Photolithography)**입니다. 이 공정은 웨이퍼 위에 정밀한 미세 회로 패턴을 형성하는 과정으로, 반도체 칩의 성능과 집적도를 결정하는 중요한 기술입니다. 반도체 회로가 점점 더 미세화(7nm, 5nm, 3nm)되면서 포토리소그래피 기술의 발전이 필수적이 되었으며, EUV(극자외선) 리소그래피 같은 최첨단 기술이 개발되고 있습니다. 이번 글에서는 포토리소그래피 공정의 원리, 주요 기술, 응용 분야 및 최신 트렌드를 자세히 살펴보겠습니다.1. 포토리소그래피(Photolithography)란?포토리소그래피는 빛을 이용하여 웨이퍼 표면에 회로 패턴을 형성하는 공정입니다. 🔹 반도체 웨이퍼 위에 **감광제(포토레지스트, Photore..