디지털과 AI세상

반도체 제조에서 가장 핵심적인 공정 중 하나는 **포토리소그래피(Photolithography)**입니다. 이 공정은 웨이퍼 위에 정밀한 미세 회로 패턴을 형성하는 과정으로, 반도체 칩의 성능과 집적도를 결정하는 중요한 기술입니다. 반도체 회로가 점점 더 미세화(7nm, 5nm, 3nm)되면서 포토리소그래피 기술의 발전이 필수적이 되었으며, EUV(극자외선) 리소그래피 같은 최첨단 기술이 개발되고 있습니다. 이번 글에서는 포토리소그래피 공정의 원리, 주요 기술, 응용 분야 및 최신 트렌드를 자세히 살펴보겠습니다.1. 포토리소그래피(Photolithography)란?포토리소그래피는 빛을 이용하여 웨이퍼 표면에 회로 패턴을 형성하는 공정입니다. 🔹 반도체 웨이퍼 위에 **감광제(포토레지스트, Photore..

**공정 노드(Process Node)**는 반도체 제조 기술의 발전 수준을 나타내는 중요한 지표로, 집적회로(IC)의 트랜지스터 크기와 밀도를 결정짓는 요소입니다. 반도체 업계에서는 공정 노드 크기를 줄이는 것이 기술 발전과 시장 경쟁력을 나타내는 척도로 간주됩니다. 본 글에서는 공정 노드의 정의, 역할, 기술적 의미, 그리고 미래 전망을 알아보겠습니다.공정 노드란 무엇인가?공정 노드는 반도체 제조 공정에서 사용되는 트랜지스터 크기와 관련된 기술적 지표를 의미합니다. 주로 나노미터(nm) 단위로 표시되며, 과거에는 트랜지스터의 게이트 길이를 직접적으로 나타냈으나, 오늘날에는 더 포괄적인 기술 집적도를 반영합니다.예: 5nm 공정은 해당 기술로 제조된 트랜지스터가 평균적으로 매우 작은 크기를 가지며, 고..